1986年,MO源作為前驅(qū)體核心材料納入國(guó)家高技術(shù)發(fā)展計(jì)劃。
2000年,南大光電成立,MO源成功實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化,成功打破“巴統(tǒng)”和國(guó)外公司的技術(shù)壟斷,并在“神舟”飛船、“東4”大衛(wèi)星平臺(tái)系列衛(wèi)星等航天器的太陽(yáng)能電池上成功得到運(yùn)用。
2016 年,承接國(guó)家“02-專(zhuān)項(xiàng)”,現(xiàn)已建成具備合成、純化、分析、封裝等功能的ALD前驅(qū)體研發(fā)中心和生產(chǎn)線,完全滿(mǎn)足相關(guān)芯片產(chǎn)品的制造要求。
2017年11月,引入陶氏化學(xué)的高K三甲基鋁生產(chǎn)線,2020年10月正式投產(chǎn),在開(kāi)發(fā)高端半導(dǎo)體的進(jìn)程中,扮演關(guān)鍵材料供應(yīng)商的重要市場(chǎng)角色。 2020年12月,跨國(guó)并購(gòu)杜邦集團(tuán)19項(xiàng)專(zhuān)利資產(chǎn)組,6項(xiàng)技術(shù)屬于全球首創(chuàng)技術(shù),一舉邁入國(guó)際領(lǐng)先的前驅(qū)體材料企業(yè)行列。
2013年,獲得國(guó)家“02-專(zhuān)項(xiàng)”高純特種電子氣體研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目支持。
2016年,經(jīng)過(guò)3年的技術(shù)開(kāi)發(fā),成功實(shí)現(xiàn)了國(guó)內(nèi)30年未能解決的高純砷烷、磷烷等特種電子氣體的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化難題,一舉打破了國(guó)外技術(shù)封鎖和壟斷,為我國(guó)極大規(guī)模集成電路制造提供了核心原材料。
目前,砷烷品質(zhì)己達(dá)到7N,技術(shù)居全球前列,產(chǎn)能躍居全球第一,并進(jìn)入國(guó)際一流公司供應(yīng)鏈。磷烷的技術(shù)水平也已居全球前列,產(chǎn)能為全球第二。
2019年8月,南大光電成功并購(gòu)飛源氣體,開(kāi)始布局氟系列電子特氣。依托南大光電客戶(hù)、機(jī)制和技術(shù)優(yōu)勢(shì),進(jìn)行60多項(xiàng)技術(shù)創(chuàng)新,迅速提升產(chǎn)能、品質(zhì),降低成本,二年實(shí)現(xiàn)三氟化氮產(chǎn)能4000噸、六氟化硫產(chǎn)能3000噸,成本全球領(lǐng)先,產(chǎn)能?chē)?guó)內(nèi)第二、全球第三。
一是擴(kuò)展現(xiàn)有高純磷烷、高純砷烷氫類(lèi)電子特氣,進(jìn)軍氟系、硅系和硼系特種氣體;
二是持續(xù)開(kāi)發(fā)先進(jìn)純化工藝、先進(jìn)吸附劑及負(fù)壓安全吸附技術(shù)以及特種氣體廢氣處理材料,提升電子特氣產(chǎn)品純度,尤其7N級(jí)別高純磷烷砷烷、5N級(jí)別BF3等高端領(lǐng)域的應(yīng)用;
三是 “123”新奮斗目標(biāo):在內(nèi)蒙古打造一個(gè)世界級(jí)的氟硅電子材料基地,實(shí)現(xiàn)“綠色能源+綠色制造”,以“雙綠”躋身世界;培養(yǎng)三個(gè)世界單項(xiàng)冠軍。
2017年,公司承接國(guó)家“02-專(zhuān)項(xiàng)”高分辨率光刻膠產(chǎn)品關(guān)鍵技術(shù)的研究項(xiàng)目,達(dá)到光刻膠基礎(chǔ)配方分辨率相關(guān)技術(shù)節(jié)點(diǎn)要求和項(xiàng)目原定的技術(shù)指標(biāo)要求,得到了“02-專(zhuān)項(xiàng)”項(xiàng)目驗(yàn)收專(zhuān)家組的高度認(rèn)可。
2018年,02重大專(zhuān)項(xiàng)實(shí)施管理辦公室決定由我司承擔(dān)193nm浸沒(méi)式光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目,向我國(guó)真正擁有ArF光刻膠產(chǎn)品的方向繼續(xù)邁進(jìn)。
2019年底,公司在寧波市北侖區(qū)完成了第一條光刻膠生產(chǎn)線建設(shè),產(chǎn)能達(dá)到10噸/年的規(guī)模, 第二條光刻膠生產(chǎn)線于2020年完成建設(shè),總產(chǎn)能達(dá)到25噸/年。同時(shí)在國(guó)家重大科技攻關(guān)項(xiàng)目的支持下,向光刻膠配套原材料領(lǐng)域展開(kāi)技術(shù)攻關(guān)。
2020年4月,成為中國(guó)首個(gè)購(gòu)買(mǎi)ASML 193nm浸沒(méi)式光刻機(jī)的電子材料企業(yè)。
2020年底和2021年5月,193nm ArF光刻膠先后通過(guò)存儲(chǔ)和邏輯兩家芯片制造企業(yè)的驗(yàn)證,為量產(chǎn)打下了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ),成為國(guó)內(nèi)首個(gè)通過(guò)驗(yàn)證的ArF光刻膠產(chǎn)品,ArF光刻膠研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化取得關(guān)鍵性突破,被列為國(guó)家攻克“卡脖子”工程的標(biāo)桿。
2021年建黨100周年前夕,順利通過(guò)國(guó)家“02-專(zhuān)項(xiàng)”驗(yàn)收。